除鹽水補水量不合格造成什麼超標

Ⅰ 凝結水壓力高,還是除鹽水壓力低

除鹽水壓力高。根據查詢凝結水除鹽水相桐鋒關資料得知，除鹽水壓力高。除鹽水壓力高，水量大了，造成凝局孝晌結水慎頌溶解氧超標，適當控制一下除鹽水的壓力會有效果。

Ⅱ 除鹽水合格範圍,會不會影響爐水二氧化硅超標

除鹽水合差鎮叢格範圍，虛櫻會影響爐水二氧化硅超標。鍋爐用電滲析器加化學除鹽處理的水作鍋爐補充水，其產品往往水電導率(代表鹽分)合格.二氧化硅旅顫難以合格。

Ⅲ 脫鹽水外供PH超標的原因有哪些如何處理會造成哪些後果

能原因： 1.系統濃縮倍數過大；處理辦法：加大排污量，降低濃縮倍數。 2.系統pH降低，導致部分沉澱（垢）溶解，處理辦法：加大排污量，必要時調高pH; 3.補充水發生變化嘩差；處理辦法調整循環水處理葯劑投加量或品種，同時加大排污量，亂或皮降低濃縮倍數。 4.系統被泄露污染。處理辦法：團裂加大排污量置換污染系統

Ⅳ 為什麼混床更換樹脂後，除鹽水中二氧化硅含量超標

混床出水SiO2超標的原因 ：
1.1除硅系統不完善。反滲透裝置後續處理直接為二級混床離子交換除鹽. 由於 RO 為物理除鹽,所以一級混床進水中含有 s0:一,cL 一,HC03,HSiO3-等所有 陰離子,經過混床陰 樹脂的交換後,進入二級混床的主要是 HCOf,HSi03-兩種陰離子,經測定其中 HSi03-含量是xJco;含 倍,這樣在終點到達時,失效的二級混床陰樹脂中,RHSiO,比例高達75%～85%.這時,常規 的再生方法已無法徹底去除硅酸,所以再次投運時會導致衡納混床出咐升沒水SiO:含量超標, 將這種現象稱之為 "硅污染".硅污染易發生在二級混床的強鹼性陰樹脂中,用正常的再生方法無法徹 底地將這些硅洗脫 來,其結果往往導致陰樹脂的除硅能力較大幅度的下降,再生後混床出水硅含量超標.
2.常規再生方法的不足。 對發生硅污染的混床,常規的再生用鹼量不足以保證再生效果,其原因:不足量的再生液流經樹脂層時先是發生部分硅化合物被再生下笑搜來的過程,部分硅化合物仍殘留在樹脂中。